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HM-C-004
納米二氧化鋯絲印漿料（自制）
（納米分散技術(shù)）
ZrO2, ~50nm/20nm，
固含量~20%
10克/20克/50克/其它
250目網(wǎng)板，印刷一次約2微米（450度燒結(jié)30分鐘）
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